高壓X射線衍射方法源自于同步輻射光源,可用于研究粉末和單晶在高壓條件下的結(jié)構(gòu)形成和演化規(guī)律。為解決同步輻射光源機(jī)時(shí)資源偏少的難題,本公司開(kāi)發(fā)實(shí)驗(yàn)室級(jí)別的高壓X射線衍射儀。本產(chǎn)品針對(duì)高壓X射線衍射方法的獨(dú)特性,基于DAC技術(shù)和先進(jìn)的微焦斑高能光源,結(jié)合精密旋轉(zhuǎn)中心定位法,實(shí)現(xiàn)對(duì)粉體材料、單晶材料等的高壓條件下結(jié)構(gòu)研究。
1、 可選微焦斑M(jìn)o靶(17kev),Ag靶材(22 kev),同時(shí)可選針對(duì)高壓實(shí)驗(yàn)的高能液態(tài)金屬I(mǎi)n光源(24 kev),X 射線光源具有聚焦后樣品處光斑小,光通量大和波長(zhǎng)短等特點(diǎn)。
2、 大面積、單光子計(jì)數(shù)探測(cè)器提高衍射數(shù)據(jù)分辨率,獲得更多的衍射峰數(shù)量,提高晶體結(jié)構(gòu)的分辨率。配備CdTe單光子計(jì)數(shù)型探測(cè)器,大幅提高對(duì)短波長(zhǎng)射線的探測(cè)效率并降低背景噪音,提高數(shù)據(jù)信噪比。
3、 采用在同步輻射實(shí)驗(yàn)裝置上所使用的先進(jìn)旋轉(zhuǎn)中心定位法,在此基礎(chǔ)上進(jìn)行優(yōu)化。利用五維電動(dòng)樣品位移臺(tái),通過(guò)軟件操作,實(shí)現(xiàn)樣品掃描對(duì)中。具有樣品到探測(cè)器距離固定不變、數(shù)據(jù)精確等優(yōu)勢(shì),避免用戶操作時(shí)輻照損傷。
液態(tài)金屬I(mǎi)n靶E1型X射線光源參數(shù) |
高通量模式 | 焦斑大小 | 90 μm FWHM |
通量 | 1.9 × 108 ph/s |
發(fā)散度 | 3.15 mrad |
小焦斑模式 | 焦斑大小 | 15 μm FWHM |
通量 | 1.8 ×107 ph/s |
發(fā)散度 | 12.6 mrad |
特殊模式 | 焦斑大小 | 10 μmFWHM |
通量 | 1.0 ×106 ph/s |
發(fā)散度 | 2 mrad |
位移臺(tái)參數(shù) |
| XY軸重復(fù)定位精度±0.2 μm;行程±10 mm; Z軸重復(fù)定位精度≤±0.2 μm;行程±10 mm; Ф 軸重復(fù)定位精度≤0.002°;行程±135°; X1Y1重復(fù)定位精度±0.2 μm;行程±12.5 mm; |